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更新内容

一、

在今天于上海举行的一场行业大会上，华为公司董事、半导体业务部总裁何庭波在题为《半导体新路径探索与实践》的主旨演讲中，正式发表“韬（τ）定律”。这是中国在全球半导体领域首次提出指导产业发展的新原则。基于该定律，华为过去六年已成功设计并量产了381款芯片。今年秋季，华为将发布新的麒麟手机芯片，完整采用逻辑折叠技术，大幅提升相关性能。

随后，华为发布了一篇署名为何庭波的论文，详细介绍了这些新技术和进展。

六十年来，摩尔定律的几何缩放推动了半导体技术的进步。然而，这一行业共识已不再适用：纯粹尺寸缩小带来的收益已趋于平缓，尖端芯片的设计预算超过十亿美元，而最先进节点的晶体管成本也不再下降。本文提出了一种新的缩放原则——τ缩放。该原则以时间本身而非晶体管面积作为衡量进步的主要指标，并采用单一的特征时间常数τ作为统一的优化目标，涵盖从开关晶体管到数据中心工作负载的十二个数量级。本文展示了两个量产规模的演示案例。在移动SoC上，LogicFolding（一种将数字、模拟和存储电路划分到垂直堆叠的有源层的方法）在固定器件节点上实现了晶体管密度55%的阶梯式提升和41%的能效提升。在人工智能系统方面，由内存语义统一总线架构、近封装Hi-ONE光I/O和边缘到表面3D折叠技术组成的协同设计堆栈，预计到2035年硬件集成度将增长100倍以上。更深层次的论断是方法论上的：τ扩展是自Dennard以来第一个在整个计算堆栈中建立共享优化目标的扩展原则。

自20世纪60年代中期以来，半导体行业一直以纳米为单位衡量发展。每隔18个月，晶体管尺寸缩小，频率提升，每个逻辑门的成本下降。摩尔定律既是一项经验观察，也帮助建立了一个行业契约，整个计算体系都建立在这个契约之上。然而，这个行业契约如今已不再适用。在7纳米节点之后，

几何级数缩放不再像过去那样带来显著效益。光刻工具正接近图形化的物理极限，极紫外光刻 (EUV) 折旧占据了晶圆成本的大部分，而且每个晶体管的价格曲线已经趋于平缓——在某些情况下甚至出现逆转。对于那些难以获得最先进光刻技术的企业而言，这种限制来得更早，影响也更加严重。

因此，行业的核心问题已经发生了变化。不再是“晶体管还能缩小多少？”，而是“应该缩放什么，以及缩放的目标是什么？”过去六年，华为半导体团队在移动SoC、AI加速器、系统架构和封装等领域，对这个问题进行了深入研究。

最终结论是，答案并非在于采用新的制程节点或晶体管架构，而在于改变主要的优化目标本身。这一观点认为，未来十年电子系统的发展方向不应是几何缩放，而应是时间缩放——即系统性地降低堆叠每一层中单一特征时间常数τ，从皮秒级晶体管开关到秒级数据中心工作负载响应。下文将结合2020年5月至2026年5月期间381款量产芯片的经验，从科学方法和产业路线图两个方面阐述τ缩放的必要性。

在半导体行业的大部分历史中，其主要任务只有一个：缩小晶体管的尺寸。戈登·摩尔 (Gordon Moore) 于1965年观察到晶体管密度大约每两年翻一番，十年后，罗伯特·丹纳德 (Robert Dennard) 的缩放理论对此进行了补充。该理论指出，电压和尺寸的成比例缩小可以保持电场强度恒定。几何缩放和丹纳德缩放共同作用，在近五十年的时间里，实现了每瓦性能和每美元性能的指数级提升。

这种局面分两个阶段瓦解。大约在2005年，丹纳德缩放率先失效：电压不再与特征尺寸成比例缩放，暗硅时代由此开启。几何缩放则持续了更长时间，这得益于 FinFET 以及后来的环栅 (GAA) 器件架构。然而，在7纳米之后，纯粹依靠尺寸缩放带来的收益已经趋于平缓。其原因现在已得到充分论证：速度饱和将固有延迟对沟道长度的依赖性从二次方降低到线性；局部互连的寄生电阻和电容日益占据标准单元延迟预算的大部分；掩模成本、EUV折旧以及设计规则的复杂性，使得2纳米节点的尖端芯片设计预算超过了每片芯片10亿美元。

由此带来的经济后果同样不容忽视。在先进节点，晶体管成本增长趋于平缓，而在尖端节点，晶体管成本却在不断上升。过去五十年支撑着整个行业的“每代都以更低的成本生产更多晶体管”的理念已不再适用。对于华为半导体而言，这一转变还带来了一个额外的限制：获取最先进光刻工具的渠道受限。指望下一个节点就能解决这个问题已不再可行。六年前，这种几何级数增长的趋势已经停滞不前，迫使人们面对一个更为根本的问题——一个事后看来整个行业最终都必须面对的问题。

摩尔定律本质上并非几何形状，而是对最终用户影响最大的技术。更小的晶体管之所以能提升系统性能，是因为它们切换速度更快。更密集的互连线之所以能提升性能，是因为信号传输距离更短。更高的集成度之所以能提升性能，是因为数据跨越的边界更少。每一代技术带来的本质上都是时间的缩短——器件层面从皮秒到纳秒，芯片层面从纳秒到微秒，系统层面从微秒到秒。空间缩放仅仅是压缩时间的工具。

一旦认识到这一点，一个显而易见的重新定义便浮现出来。时间本身应该被用作主要衡量标准。可以在堆叠的每一层——晶体管、电路、芯片和系统——定义一个特征时间常数 τ，并将其降低作为统一的优化目标。几何缩放就成为众多降低 τ 的技术之一，而非唯一的方法。

这一原理被称为τ标度律，本文将其作为几何摩尔标度律的继任者，作为半导体演化的指导原则。形式上，τ被视为一个分层结构，可以分解为：

分别代表晶体管层、电路层、芯片层和系统层的时间常数。每一层的 τ 由其下层的时间常数以及该层引入的组织和通信开销组成。 τ 的工作空间在时间上跨越约十二个数量级（从皮秒到秒），在空间上也跨越相当的范围（从纳米到千米）。在每一层，都有不同的机制可用于降低 τ：

• 晶体管：固有开关延迟，可通过提高迁移率、应变工程、高介电常数/金属栅极和 GAA 架构来解决，并且越来越多地通过降低局部互连的寄生电阻和电容来解决，这些寄生电阻和电容目前已超过固有渡越时间数倍。

• 电路：沿信号路径的 RC 传播延迟，可通过低电阻导体、低介电常数材料来解决，以及——最重要的是——通过垂直集成缩短导线长度来解决。

• 芯片：计算和内存访问延迟，可通过架构选择、流水线深度、内存层次结构和片上互连结构来解决。

• 系统：端到端消息传递和同步时间，可通过互连拓扑结构、协议栈和互连结构设计来解决。

从这种分层式的表述中可以得出一条有用的世代规律：

其中，缩放因子 α 是特定于应用的，而非通用的。迄今为止的生产经验表明，对于功耗受限的移动设备，α ≈ 每年1.3倍；对于安全至关重要的自主系统，α ≈ 每年1.5倍；而对于 AI 工作负载，α 可达每年10倍，因为吞吐量直接转化为经济价值。

τ 之所以成为一个有用的主要指标，而不是对现有指标的重新命名，是因为它在整个技术栈中都是同一个指标。频率、延迟、带宽和吞吐量在其各自的层级都由 τ 控制。工艺技术专家、电路设计师和系统架构师可以用相同的单位讨论同一个量。τ 是实现端到端技术栈协同优化的语言——而每层独立优化、时序成为次要因素的时代已经结束。

τ缩放的首次量产规模测试在移动设备领域展开。智能手机SoC的特殊之处在于，单个芯片构成了整个系统。多插槽并行架构无法实现；即使拥有上千个节点，也无法弥补链路速度慢的问题。所有交付给用户的性能都源自单个芯片，功耗仅为几瓦，并且受到手持设备外形尺寸限制带来的散热限制。

2020年之后，随着先进制程节点的获取受到限制，关键问题变成了：在制程节点固定的情况下，如何在单个芯片上持续实现代际性能提升？

最终的答案就是逻辑折叠（LogicFolding）。

定义：逻辑折叠是一种设计方法，它将数字电路、模拟电路和存储电路划分到垂直堆叠的有源层中，遵循时间缩放原则，从而在性能、功耗和面积之间实现协同优化。

二、 1.修复已知Bug。2.新服务。

三、修复已知bug;优化用户体验

四、1，交互全面优化，用户操作更加便捷高效;2，主题色更新，界面风格更加协调;3，增加卡片类个人数据

五、-千万商品随意挑选，大图展现商品细节-订单和物流查询实时同步-支持团购和名品特卖，更有手机专享等你抢-支付宝和银联多种支付方式，轻松下单，快捷支付-新浪微博，支付宝，QQ登录，不用注册也能购物-支持商品收藏，随时查询喜爱的商品和历史购物清单。

六、1.bug修复，提升用户体验;2.优化加载，体验更流程;3.提升安卓系统兼容性

七、1、修复部分机型bug;2、提高游戏流畅度;